GSE tech Factory에서 개발한 전자 산업용 초고순도 모듈형 질소 발생기는 기존 질소 생산 장비의 단일 여과 구조에서 벗어났습니다. 공장의 일반 압축 공기를 가스 공급원으로 사용하여 "첫 번째 질소 생산, 그 다음 심층 정화 및 정제"라는 이중 레벨 프로세스 논리를 채택합니다. 코어분리장치를 통해 기초질소 생산이 완료되며, 독자적인 다단계 복합정제 구조를 통해 전자부품 공정불량을 유발하기 쉬운 미량산소, 잔류수분, 초미립자를 구체적으로 제거합니다. 이를 통해 정밀 가공 중 산화, 핀홀, 코팅 결함, 용접 불량 등의 생산 문제를 가스 공급원에서 제거할 수 있습니다.
전체 기계는 완전 밀봉된 먼지 없는 구조 설계를 특징으로 하는 전자 클린룸의 표준에 따라 설계되었습니다. 기계 본체에는 먼지가 쌓이는 사각지대가 없으며 청소 및 유지 관리가 쉽습니다. 반도체 무진 작업장, 정밀 전자 제조 작업장의 클린 제어 사양에 적합하며, 고정밀 생산 환경에 2차 오염을 일으키지 않습니다.
또한 순도 변화도의 정밀한 제어도 지원합니다. 칩 패키징, 웨이퍼 가공, 광전도금, 정밀 부품 용접 등 다양한 공정의 차별화된 가스 사용 기준에 따라 초고순도 질소 가스를 안정적으로 출력할 수 있어 전체 고급 전자 제조 공정의 공정 요구 사항을 완벽하게 충족합니다.
장비는 안정적인 가스 생산 순도, 제어 가능한 이슬점 매개변수 및 매우 높은 가스 공급원 청결도를 갖춘 자동화된 폐쇄 루프 방식으로 작동합니다. 순도 변동, 높은 소모품 비용, 가스 공급 중단 등 기존 병에 담긴 고순도 질소 가스 및 액체 질소 공급의 업계 문제점을 완전히 해결합니다. 고급 전자 제조 기업에 24시간 중단 없는 표준화된 무공해 불활성 가스 보호를 제공하여 제품 수율을 효과적으로 개선하고 정밀 공정의 폐기율과 장기 가스 사용 비용을 줄일 수 있습니다. 첨단 전자, 반도체, 광전자 산업의 표준화된 생산을 위한 핵심 지원 장비입니다.
1. R&D 및 생산 관점: 전자 산업의 가스 순도 및 청정도에 대한 엄격한 요구 사항에 대응하여 당사는 이 부문을 위한 전용 정화 모듈을 갖춘 초고순도 질소 발생기를 특별히 개발했습니다.
2. 가스원 및 공정 측면에서 본 장비는 압축공기를 1차 가스원으로 사용하며, 먼저 PSA 모듈을 통해 질소를 생성한 후 다단계 정화 시스템에 연결하여 산소, 수분, 미량의 불순물을 철저하게 제거합니다.
3. 응용 관점: 이 장비는 고급 전자 제조 분야를 대상으로 하며 웨이퍼 가공, 칩 본딩, 반도체 패키징, 정밀 부품 용접, 광학 전자 코팅 등의 공정에 널리 사용됩니다.
1. 순도 구배를 제어할 수 있는 다단계 심층 정화: 전자 산업용 초고순도 질소 발생기는 복합 정화 프로세스를 사용하는 전용 심층 정화 모듈을 갖추고 있어 미량 산소 수준 및 이슬점 매개 변수를 엄격하게 제어하여 질소 순도를 99.9999%까지 안정적으로 향상시킬 수 있습니다.
2. 클린룸 전용 설계: 전체 장치는 매끄러운 밀봉과 쉽게 청소할 수 있는 표면을 갖춘 먼지 없는 구조 설계를 채택하여 먼지 축적 데드존을 제거하고 전자 클래스 등급 클린룸 관리 표준을 완전히 준수합니다.
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중국 장쑤성 창수시 선샤인 애비뉴 58호 13-1호 건물
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